Héich reng 99,95% fir Atominär Industrie gutt Plastiks Droen Resistenzbezuelungsbezuelungsgung oder Bar Tantalum Produkter
Produkt Paramèren
Produktéiernumm | 99,95% Tantalum Zillot Bar Keefer Ro5400 Tantalum Präis |
Rengheet | 99,95% min |
40 Milliounen | R05200, R05400, R05252, RO5255, R05240 |
Ufank | Astm B365 |
Gréisst | Dia (1 ~ 25) xmax3000mm |
Bedingchmëttel | 1.Hot-gerullt / kal-gerullt; 2,alkaline Botzen; 3EleCTROLYTIC POLISCH; 4.Machen, Schleifen; 5.stress Relief annuléieren. |
Mechanescht Immobilie (Aneraled) | 40 Auer; Tensil Stäerkt min; Rift Kraaft min; Verlängert min,% |
(Net), PSI (MPA), PSI (MPA) (2%), (1in. Gage Längt) | |
(RO5200, RO5400), 30000 (207), 2008 (138), 20) | |
Ta-10W (ro5255), 70000 (482), 60000 (414), 15 | |
Ta-2.5w (ro5252), 40000 (276), 30000 (207), 20 | |
Ta-40nb (ro5240), 35000 (241), 20000 (138), 25 | |
Personaliséiert Produkter | Geméiss dem Zeechnen, besonnesch Ufuerderunge fir duerch de Liwwerant a Keefer ausgemaach ze ginn. |
Spezifizéierung
Entersheemer | Duerchmiesser Toleranz | Läitheet | Toleranz | |||
geschmiedte Staang | Extrudéiert Staangen | Rolling Staang | Grondstetzung | |||
3.0-4,5 | ± 0.05 | - | ± 0.05 | - | 500-1500 | + 5 |
> 4.5-6.5 | ± 0,100 | - | ± 0,100 | - | 500-1500 | + 5 |
> 6.5-10.0 | ± 0,15 | - | ± 0,15 | - | 400-1500 | + 5 |
> 10-16 | ± 0.20 | - | ± 0.20 | - | 300-1200 | + 5 |
> 16-18 | ± 1.0 | - | - | ± 0.30 | 200-2000 | + 20 |
> 18-25 | ± 1,5 | ± 1.0 | - | ± 0,40 | 200-2000 | + 20 |
> 25-40 | ± 2.0 | ± 1,5 | - | ± 0,50 | 150-4000 | + 20 |
> 40-50 | ± 2.5 | ± 2.0 | - | ± 0.60 | 100-3000 | + 20 |
> 50-65 | ± 3.0 | ± 2.0 | - | ± 0,80 | 100-1500 | + 20 |
Tabell -Chememine Zesummesetzung vum Tantalum Staang
Chemie-PPM | ||||||||||||
Broessdatsch | Chef Komponent | Gëftstoffer maximal | ||||||||||
Ta | Nb | Fe | Si | Ni | W | Mo | Ti | O | C | H | N | |
Ta1 | A Rouleau | 300 | 40 | 30 | 20 | 40 | 40 | 20 | Gären 150 | 40 | 15 | 20 |
Ta2 | A Rouleau | 800 | 100. | 100. | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100. | 15 | 100. |
Tanb3 | A Rouleau | <35000 | 100. | 100. | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100. | 15 | 100. |
Tanbb20 | A Rouleau | 170000- 230000 | 100. | 100. | 50 | 200 | 200 | 50 | 200 | 100. | 15 | 100. |
Ta2.5w | A Rouleau | 400 | 50 | 30 | 20 | 30000 | 60 | 20 | Gären 150 | 50 | 15 | 60 |
Ta10w | A Rouleau | 400 | 50 | 30 | 20 | 11000000 | 60 | 20 | Gären 150 | 50 | 15 | 60 |
Dësch ⅱ zulässlech Variatiounen am Duerchmiesser fir Tantalum Staangen
Duerchmiesser (MM) | Toleranz, +/- Zoll (mm) |
0.125 ~ 0.187 excl (3.175 ~ 4.750) | 0.003 (0,076) |
0.187 ~ 0.375 Excl (4.750 ~ 9.525) | 0.004 (0,102) |
0,375 ~ 0.500 Excl (9,525 ~ 12,70) | 0.005 (0,127) |
0,500 ~ 0.625 After (12.70 ~ 15.88) | 0,007 (0,178) |
0,625 ~ 0.750 excl (15.88 ~ 19.05) | 0.008 (0,203) |
0.750 ~ 1.000 excl (19.05 ~ 25,40) | 0.010 (0,254) |
1.000 ~ 1.500 AXL (25,40 ~ 38,10) | 0,015 (0.381) |
1.500 ~ 2.000 excl (38.10 ~ 50,80) | 0,020 (0,508) |
2.000 ~ 2.500 AXL (50,80 ~ 63,50) | 0,030 (0.762) |
D'Applikatioun
Kapazitoren; chirurgeschen Implantate an Instrumenter; Tënt Jet Düsen.
An Laboratoire Ausrüstung benotzt.
Als Ersatz fir Platin benotzt.
An d'Fabrikatioun super Galen an Elektron an Elektron-Beam schmëlzen.
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