Oem High Purity 99.95% Polnesch Dënn Wolfram Plack Blat Wolfram Blieder Fir Industrie
Produit Parameteren
Mark | HSG |
Standard | ASTMB760-07;GB/T3875-83 |
Grad | W1, W2, WAL1, WAL2 |
Dicht | 19,2 g/cc |
Rengheet | ≥99,95% |
Gréisst | Déck 0.05mm min * Breet 300mm max * L1000mm max |
Uewerfläch | Schwaarz / Alkali Botzen / poléiert |
Schmëlzpunkt | 3260 C |
Prozess | waarm Rolling |
chemesch Zesummesetzung
Chemesch Zesummesetzung | ||||||||||
Gëftstoffgehalt (%), ≤ | ||||||||||
Al | Ca | Fe | Mg | Mo | Ni | Si | C | N | O | |
Gläichgewiicht | 0,002 | 0,005 | 0,005 | 0,003 | 0,01 | 0,003 | 0,005 | 0,008 | 0,003 | 0,005 |
Dimensioun an zulässlech Variatiounen
Dicke | Dicke Toleranz | Breet | Breet Toleranz | Längt | Längt Toleranz | |
I | II | |||||
0.10-0.20 | ± 0,02 | ± 0,03 | 30-150 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
>0.20-0.30 | ± 0,03 | ± 0,04 | 50-200 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
>0.30-0.40 | ± 0,04 | ± 0,05 | 50-200 | ± 3 | 50-400 | ± 3 |
>0.40-0.60 | ± 0,05 | ± 0,06 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
>0.60-0.80 | ± 0,07 | ± 0,08 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
>0,8-1,0 | ± 0,08 | ± 0,10 | 50-200 | ± 4 | 50-400 | ± 4 |
>1.0-2.0 | ± 0,12 | ± 0,20 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
>2.0-3.0 | ± 0,02 | ± 0,30 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
>3.0-4.0 | ± 0,03 | ± 0,40 | 50-200 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
>4.0-6.0 | ± 0,04 | ± 0,50 | 50-150 | ± 5 | 50-400 | ± 5 |
Fonktioun
Héich Schmelzpunkt, Héich Dicht, héich Temperatur Oxidatioun Resistenz, laang Liewensdauer, Resistenz zu corrosion.
Wolfram Röhre ass wäit an der Thermoelement Schutzröhre benotzt, Saphir Kristallofen an Héichtemperaturofen, asw.
Applikatioun
Wolfram Plack Uwendungen: A99,95% Rengheet Wolfram Plack
1. Hëtzt Resistenz Komponente: Hëtzt Schëld, Heizung Element vun héich Temperatur Vakuum Uewen.
2. Wolfram Sputtering Ziler fir d'Vakuumbeschichtung an d'Verdampfungsbeschichtung.
3. Elektronesch an semi-conduct Komponente.
4. Ion implantéiert Komponente.
5. Wolfram Schëffer fir Saphir Kristallofen a Vakuumofen.
6. Onkloer Industrie: Déi éischt Mauer vun Fusioun Reaktoren