Héich Puritéit 99,9% Nano Tantal Pudder / Tantal Nanopartikel / Tantal Nanopowder
Produit Parameteren
Produit Numm | Tantal Pudder |
Mark | HSG |
Modell | HSG-07 |
Material | Tantal |
Rengheet | 99,9% -99,99% |
Faarf | Gro |
Form | Pudder |
Charaktere | Tantal ass e sëlwerglänzend Metal dat mëll ass a senger reiner Form. Et ass e staarkt an duktilt Metal a bei Temperaturen ënner 150 ° C (302 ° F), ass dëst Metall zimmlech immun géint chemeschen Attacken. Et ass bekannt als resistent géint Korrosioun well et en Oxidfilm op senger Uewerfläch weist |
Applikatioun | Benotzt als Additiv a speziellen Legierungen Eisen- an Net-ferrometaller. Oder benotzt fir elektronesch Industrie a wëssenschaftlech Fuerschung an Experimenter |
MOQ | 50 kg |
Package | Vakuum Aluminiumfoliebeutel |
Stockage | ënner dréchen a coolem Zoustand |
Chemesch Zesummesetzung
Numm: Tantalum Pudder | Spezifizéierung: * | ||
Chemikalien: % | GRÉISST: 40-400 Mesh, Mikron | ||
Ta | 99,9% min | C | 0,001% |
Si | 0,0005% | S | <0,001% |
P | <0,003% | * | * |
Beschreiwung
Tantal ass ee vun de rarsten Elementer op der Äerd.
Dëst platingro faarweg Metal huet eng Dicht vun 16,6 g / cm3 déi duebel sou dicht wéi Stol ass, a Schmelzpunkt vun 2, 996 ° C gëtt de véiert héchste vun all Metaller. Mëttlerweil ass et héich duktil bei héijen Temperaturen, ganz schwéier an exzellent thermesch an elektresch Dirigenteigenschaften. Tantal metallurgesch Pudder produzéiert vun UMM charakteriséiert sech duerch besonnesch feine Kärgréissten a kann einfach an Tantal Staang, Bar, Blat, Plack, Sputterziel a sou weider geformt ginn, zesumme mat héijer Rengheet, an entsprécht absolut all Ufuerderunge vum Client.
Dësch Ⅱ Zulässlech Variatiounen am Duerchmiesser fir Tantal Staang
Duerchmiesser, Zoll (mm) | Toleranz, +/- Zoll (mm) |
0,125 ~ 0,187 excl (3,175~4,750) | 0,003 (0,076) |
0,187~0,375 excl (4,750~9,525) | 0.004 (0.102) |
0,375~0,500 excl (9,525~12,70) | 0.005 (0.127) |
0,500~0,625 excl (12,70~15,88) | 0.007 (0.178) |
0,625~0,750 excl (15,88~19,05) | 0,008 (0,203) |
0,750~1,000 excl (19,05~25,40) | 0.010 (0.254) |
1.000~1.500 excl. (25.40~38.10) | 0.015 (0.381) |
1.500~2.000 excl (38.10~50.80) | 0.020 (0.508) |
2.000~2.500 excl (50.80~63.50) | 0.030 (0.762) |
Applikatioun
Tantal metallurgesche Pudder gëtt haaptsächlech benotzt fir Tantal Sputtering Zil ze produzéieren, déi drëttgréisste Applikatioun fir Tantalpudder, folgend Kondensatoren a Superlegierungen, déi haaptsächlech an Hallefleitapplikatiounen fir Héichgeschwindeg Datenveraarbechtung a fir Späicherléisungen an der Konsumentelektronikindustrie benotzt gëtt.
Tantal metallurgesch Pudder gëtt och fir d'Veraarbechtung an Tantal Staang, Bar, Drot, Blat, Plack benotzt.
Mat malleability, héich Temperatur Resistenz a corrosion Resistenz, Tantal Pudder ass wäit an der chemescher Industrie benotzt, Elektronik, militäresch, mechanesch an Raumfaarttechnik Industrien, elektronesch Komponente, Hëtzt-resistent géint Materialien, corrosion-resistent géint Ausrüstung, Katalysatoren, stierwen, fortgeschratt opteschen Glas Fabrikatioun an esou weider. Tantalpudder gëtt och an der medizinescher Untersuchung, chirurgeschen Materialien a Kontrastmëttelen benotzt.